KHO THƯ VIỆN 🔎

Nâng cao giới hạn phát hiện lượng vết chì trong môi trường nước bằng kĩ thuật chiết pha rắn kết hợp với phương pháp phân tích ICP OES

➤  Gửi thông báo lỗi    ⚠️ Báo cáo tài liệu vi phạm

Loại tài liệu:     PDF
Số trang:         47 Trang
Tài liệu:           ✅  ĐÃ ĐƯỢC PHÊ DUYỆT
 













Nội dung chi tiết: Nâng cao giới hạn phát hiện lượng vết chì trong môi trường nước bằng kĩ thuật chiết pha rắn kết hợp với phương pháp phân tích ICP OES

Nâng cao giới hạn phát hiện lượng vết chì trong môi trường nước bằng kĩ thuật chiết pha rắn kết hợp với phương pháp phân tích ICP OES

ĐẠI HỌC ĐÀ NÀNG TRƯỜNG ĐẠI HỌC sư PHẠM KHOA HÓAHUỲNH THỊ LYI NÂNG CAO GIỚI HẠN PHÁT HIỆN LƯỢNG VÉT CHÌ TRONG IVMÔI TRƯỜNG NỮỚC BÀNG KI THUẬT CHIÉT PHA

Nâng cao giới hạn phát hiện lượng vết chì trong môi trường nước bằng kĩ thuật chiết pha rắn kết hợp với phương pháp phân tích ICP OES A RÁNVVKÉT HỢP VỚI PHƯƠNG PHÁP PHÂN TÍCH ICP - OESVKHÓA LUẬN TÓT NGHIỆP CỬ NHÂN HÓA HỌCDẠI HỌC DÀ NẰNG TRƯỜNG DẠI HỌC Sư PHẠM KHOA HÓANÂNG CAO GIÓI HẠ

N PHÁT HIỆN LƯỢNG VẾT CHÌ TRONG MÔI TRƯỜNG NỪỚC BẢNG KI TIIUAT CIIIÉT PIIA RẨNKÉT HỢP VÓI PHƯƠNG PHÁP PHÂN TÍCH ICP - OESX VẠ ỉX VẠ A ỉKHÓA LUẬN TÓT N Nâng cao giới hạn phát hiện lượng vết chì trong môi trường nước bằng kĩ thuật chiết pha rắn kết hợp với phương pháp phân tích ICP OES

GHIỆP CỬ NHÂN HÓ A HỌCSinh viên thực hiện : Huỳnh Thị LyLớp: 10CHPGiáo viên hưởng dẫn : TS. Nguyễn Bá TrungĐà .Nâng, 05/20ĩ 4ĐẠI HỌC ĐÀ NẰNG CỌNG HOÀ

Nâng cao giới hạn phát hiện lượng vết chì trong môi trường nước bằng kĩ thuật chiết pha rắn kết hợp với phương pháp phân tích ICP OES

XÀ HÚI CHÚ NGHĨA VIỆT NAM TRƯỜNG ĐHSPĐộc lập - Tự do - Hạnh phúcKHOA HOÁNHIỆM VỤ KHOÁ LUẬN TÓT NGHIỆPHọ và tên sinh viên: HUỲNH THI LYLớp: 10CHP1Tèn đ

ĐẠI HỌC ĐÀ NÀNG TRƯỜNG ĐẠI HỌC sư PHẠM KHOA HÓAHUỲNH THỊ LYI NÂNG CAO GIỚI HẠN PHÁT HIỆN LƯỢNG VÉT CHÌ TRONG IVMÔI TRƯỜNG NỮỚC BÀNG KI THUẬT CHIÉT PHA

Nâng cao giới hạn phát hiện lượng vết chì trong môi trường nước bằng kĩ thuật chiết pha rắn kết hợp với phương pháp phân tích ICP OES bi. dung cụ và hóa chất:•Thiết bị. dụng cụ-Bộ chiết pha rắn 12 chồ-Máy plasma cao tần câm ứng ICP - OES-Các cột nhựa SPE-Pipet, cốc thúy tinh, bình đi

nh mức,...•Hỏa chất-Dung dịch chi chuẩn-Dung dịch HNOj (đ) 65%-Dung dịch ammoniac 25% Nâng cao giới hạn phát hiện lượng vết chì trong môi trường nước bằng kĩ thuật chiết pha rắn kết hợp với phương pháp phân tích ICP OES

ĐẠI HỌC ĐÀ NÀNG TRƯỜNG ĐẠI HỌC sư PHẠM KHOA HÓAHUỲNH THỊ LYI NÂNG CAO GIỚI HẠN PHÁT HIỆN LƯỢNG VÉT CHÌ TRONG IVMÔI TRƯỜNG NỮỚC BÀNG KI THUẬT CHIÉT PHA

Gọi ngay
Chat zalo
Facebook